CMOSイメージセンサーはレンズを通して入ってくる光を電気信号に変換し、電子機器で映像を表現するためのデジタル製品における中核部品であり、カムコーダー、デジタルカメラ、携帯電話などにおいて製品需要が急増している最先端の技術分野です。 DB HiTek では0.18µm~0.11µm でのCISプロセスをColor Filter、Micro Lensと共に提供しCIF、VGA、Mega-Pixelなど様々な形態での低電力、超小型、低コストなCISチップを生産しています。
0.18μm
- 3 Level Aluminum Process (up to M6)
- 0.18um Generic Process
- Own Library for 0.18um Process
- Dual Gate Oxide Process
- Pixel & I/O : 3.3V, Core : 1.8V
- Dark Current Reduction Process
- Thin BEOL Height- Stitching available
0.13μm
- 3 Level Aluminum Process
- Own Library for 0.13um Process
- Dual Gate Oxide Process
- Pixel & I/O : 3.3V, Core : 1.5V
- Dark Current Reduction Process
- Thin BEOL Height at Pixel area
- Minimized photo layers
0.11μm
- 3 Level Aluminum Process(up to M6)
- M0 local interconnection (only pixel area)
- Own Library for 0.11um Process
- Dual Gate Oxide Process
- Pixel & I/O : 2.8V/3.3V, Core : 1.5V
- Dark Current Reduction Process
- Thin BEOL Height
- Optimized Photo Layers
- Option process: 8fF MIM, Optimized Light guide process
- BSI available
- Stitching available
0.09μm
- 3 Level Aluminum Process(up to M6)
- M0 local interconnection (only pixel area)
- Own Library for 0.09um Process
- Dual Gate Oxide Process
- Pixel & I/O : 2.8V/3.3V, Core : 1.2V
- Dark Current Reduction Process
- Thin BEOL Height
- Optimized Photo Layers
- Option process: 8fF MIM, Optimized Light guide process
- BSI available